半导体工艺真空主要用在蒸发，溅射，PECVD，真空干法刻蚀， 真空吸附，测试设备，真空清扫等等键合工序，半导体生产制造过程中容易产生易燃易爆以及有毒的物质气体，会对生产及人员安全造成威胁，因此，半导体真空泵应用时需要注意的几个安全事项：

10月18日，高工锂电(2018)国际锂电池关键材料技术创新峰会在深圳盛大开幕。现场吸引了锂电材料各个环节及动力电池企业超80位行业专家、技术领袖及超400位业内人士，就现阶段动力电池核心材料的技术研发创新、产业化升级等展开共同探讨。

现象：真空泵抽空能力下降，经测试真空泵在无负载状态下极限真空为8Pa；真空泵进行拆解保养后，真空泵在无负载状态下极限真空小于1Pa。

1、真空设备用于排除实验过程中大气对于样品纯净度的影响。 2. 实验操作人员进行操作过程中，切勿携带电子产品。 3、实验操作人员需佩戴真空设备专用操作手套进行操作，不能直接触碰真空设备。 4、真空设备配件应在干燥箱内保存，并远离具有腐蚀性的化学气体或液体。 5、真空设备需定期进行擦拭，应选用无尘纸或无尘布配套酒精或丙酮进行清洁。